半導體潔凈車間 AMC 管控、冷媒泄漏監測長期面臨多項難題：

1. 傳統 GC-MS 等設備需色譜分離、樣品前處理，檢測滯后，無法捕捉瞬時微量泄漏與突發工藝污染；

2. 常規儀器檢出限不足，難以精準識別 ppt 級微量 AMC 污染物，高濕、高純工藝氣體基體下檢測穩定性差；

3. 單臺設備組分覆蓋有限，無法同步檢測 VOC、硅氧烷、各類冷卻劑等多類雜質；

4. 操作繁瑣，依賴專業人員值守，難以實現車間 24h 不間斷在線無人監測。

針對上述行業痛點，SIFT-MS （選定離子流動管質譜儀）依托選定離子流動管質譜核心技術，跳出傳統色譜的檢測框架，可在復雜氣體基體中實現揮發性有機物及關鍵工藝相關氣體的實時定性與定量。

與傳統分析技術(如GC-MS、FTIR、CRDS)形成互補：SIFT-MS用于連續在線監測與多組分快速篩查，傳統技術用于復雜體系確證與深度分析。該組合有效突破半導體制造中對實時性、多組分檢測及低濃度污染物識別的限制，構建面向AMC監測、冷卻劑泄漏預警及工藝異常診斷的高效分析體系。

??快速檢測｜秒級響應，連續在線

免去色譜分離步驟，秒級出數據、全天候連續監測；支持多路多點采樣、高頻掃描，精準捕捉瞬時污染、早期微量冷媒泄漏。

??操作簡便｜直接進樣，適配多基體

氣體樣品直接進機，無需濃縮、轉化等前處理；兼容潔凈室空氣、大宗工藝氣體、特種高純氣體等復雜工況基體。

??超高靈敏｜ppt 級檢出，抗干擾穩定

自動化多試劑離子智能切換，最低檢出限可達 ppt 級別，車間高濕、復雜雜質背景環境下，數據依舊穩定可靠。

??組分全面｜多物質同步篩查

單機同步檢測全品類目標物：AMC 污染物（VOC、硅氧烷、無機雜質）、各類冷卻劑（HTF7300、Galden、R407c 等）、制程工藝釋放氣體。

附加亮點：整機全流程自動化，一鍵啟動運行，可長期無人值守在線監測。

1、潔凈室AMC多點位定位監測

最遠覆蓋 200 米、支持 32 點位輪巡，7×24h 不間斷運行；秒級預警突發污染，數據可視化報警，符合 SEMI S2/S8 規范，設備稼動率高、維保工作量少。

2、潔凈室AMC移動式排查檢測

機身便攜可移動，快速鎖定污染源、挽回制程良率；自帶內置氣源與剎車裝置，續航 1.5h，現場即時出檢測數據，合規 SEMI 安全標準。

3、大宗、特氣雜質檢測

對 N?、O?、Ar 等基體氣體無干擾，適配三氟化氮（ NF3）、二氧化碳（CO2）、氬氣（ Ar）、潔凈干燥空氣（CDA）、氫氣（ H2）、氖氣（ Neon）、一氧化氮（NO）等多種工藝用氣，精準檢測氣體內 ppt 級微量雜質。

4、可檢測污染物品類

全覆蓋四類關鍵管控物質：PFAS 含氟冷媒、硅系雜質、含硫有機物、含磷有機物，適配半導體全品類 AMC 管控需求。

立足半導體精密制造嚴苛管控需求，SIFT-MS （選定離子流動管質譜儀） 以秒級快檢、免前處理、ppt 級高靈敏、全組分同步監測的硬核實力，破解傳統監測滯后、靈敏度不足、運維繁瑣等行業痛點。全自動化無人值守的運行模式，全方位守護潔凈車間空氣品質與設備安全，是半導體 AMC 管控、冷媒泄漏預警、工藝異常診斷的優選監測解決方案，助力工廠精細化氣體質量管理，筑牢生產品質防線。